膜厚计
Film Thickness Measurement Instrument
| 生产厂商： | Flimetrics (America) |
| 设备型号： | F20 |
| 放置地点： | 理科2号楼2407 |
| 设备简介（中文）： | 对薄膜样品进行无接触的无损测量，可测量薄膜厚度、光学常数，材料的反射率和透过率，测量迅速、操作简单。常用于测量二氧化硅，氮化硅，硅，光刻胶等多种材料的薄膜厚度。光谱范围380nm-1050nm, 厚度测量范围 15nm-70um， 可测量样品尺寸 直径1mm-300mm。 |
| Introduction (English): | Non-contact and non-destructive measurement of film samples can be used to measure film thickness, optical constants, reflectance and transmittance of materials, rapid measurement and simple operation. It is often used to measure the film thickness of silicon dioxide, silicon nitride, silicon, photoresist and other materials. The spectral range is 380nm-1050nm, the thickness measurement range is 15nm-70um, and the sample size can be measured with a diameter of 1mm-300mm. |
| 培训要求： | 实验室统一组织培训，上机需通过实验室培训考核。 |
| 开放机时： | 800小时/年。 |
| 收费标准： | 不收费。 |
| 操作手册： | 待发布。 |
| 管理员及联系方式： | 杨康江 电话：18800128574 邮箱：2306795013@pku.edu.cn |