感应耦合等离子刻蚀机
Ion Coupled Plasma Etching
| 生产厂商： | Oxford Instruments (U.K) |
| 设备型号： | PlasmaPro 100 Cobra 180 |
| 放置地点： | 理科2号楼2407 |
| 设备简介（中文）： | 刻蚀材料：硅、氧化硅、氮化硅等；工艺气体：CF6、CF4、CHF3、C4F8、O2、Ar、PN2；辅助气体：He、N2；晶圆尺寸：碎片、4英寸(ICP源4英寸, Holder 最大8英寸)；射频电源功率：RF：600W,13.56MHz；ICP：3kW, 13.56MHz |
| Introduction (English): | Etching material: Silicon, Silica, Silicon nitride, etc.；Gas lines: CF6、CF4、CHF3、C4F8、O2、Ar、PN2；Auxiliary gas: He、N2；Wafer size: up to 4-inch wafer(Holder 8-inch)Sources:RF: 600W,13.56MHz；ICP: 3kW, 13.56MHz. |
| 培训要求： | 实验室统一组织培训，上机需通过实验室培训考核。 |
| 开放机时： | 800小时/年。 |
| 收费标准（暂定）： | 1000元人民币/小时（校内师生），1200元人民币/小时（校外人员）。 |
| 操作手册： | 待发布。 |
| 管理员及联系方式： | 杨康江 电话：18800128574 邮箱：2306795013@pku.edu.cn |