平台设备

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感应耦合等离子刻蚀机
Ion Coupled Plasma Etching生产厂商：Oxford Instruments (U.K)设备型号：PlasmaPro 100 Cobra 180放置地点：理科2号楼2407设备简介（中文）：刻蚀材料：硅、氧化硅、氮化硅等；工艺气体：CF6、CF4、CHF3、C4F8、O2、Ar、PN2；辅助气...
磁控溅射仪
生产厂商：DE Technology Inc.设备型号：DE5500放置地点：理科2号楼2407设备简介（中文）：DE5500高真空磁控溅射仪配备两个溅射腔体且每个溅射腔体有四个磁控溅射源，可在最大6英寸基片上沉积金属、半导体、介质材料薄膜，可用于溅射...
扫描电镜
Scanning Electron Microscope生产厂商：Zeiss (Germany)设备型号：ZEISS GeminiSEM 300放置地点：理科2号楼2407设备简介（中文）：扫描电子显微镜是一种利用高能聚焦电子束扫描样品表面从而获得样品信息的电子显微镜，具有高分辨率，...
电子束曝光机
Electron Beam Lithography System生产厂商：Elionix (Japan)设备型号：ELS-F125放置地点：理科2号楼2407设备简介（中文）：电子束曝光机是制作微纳尺寸图形结构的重要基础设备，利用聚焦电子束对材料进行曝光，可用于制备包括光栅、...
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