| 生产厂商： |
DE Technology Inc. |
| 设备型号： |
DE5500 |
| 放置地点： |
理科2号楼2407 |
| 设备简介（中文）： |
DE5500高真空磁控溅射仪配备两个溅射腔体且每个溅射腔体有四个磁控溅射源，可在最大6英寸基片上沉积金属、半导体、介质材料薄膜，可用于溅射沉积多层薄膜和共溅合金薄膜。并且基片可通过LOAD LOCK腔体在所有腔体之间传送。 |
| Introduction (English): |
DE5500 High vacuum magnetron sputter is assembled with two sputter chamber of multi magnetron sputtering sources for deposition metals, semiconductor, insulation materials on the up to 6 inch substrate, it can be used to sputter multilayer thin film or co-sputter for alloy thin film. Also the substrate can be transferred to/from these two chamber with LOAD LOCK chamber. |
| 培训要求： |
实验室统一组织培训，上机需通过实验室培训考核。 |
| 开放机时： |
800小时/年。 |
| 收费标准（暂定）： |
300元人民币/小时（校内师生），600元人民币/小时（校外人员），培训费600元人民币/人。材料费另计，按实际使用计算。 |
| 操作手册： |
待发布。 |
| 管理员及联系方式： |
杨康江 电话：18800128574 邮箱：2306795013@pku.edu.cn |
