Electron Beam Lithography System
| 生产厂商： |
Elionix (Japan) |
| 设备型号： |
ELS-F125 |
| 放置地点： |
理科2号楼2407 |
| 设备简介（中文）： |
电子束曝光机是制作微纳尺寸图形结构的重要基础设备，利用聚焦电子束对材料进行曝光，可用于制备包括光栅、光子晶体等集成光学器件，微纳光机电结构，高精度光刻模板等，适用于光电子、生物传感、量子物理等多个领域。设备加速电压125kV，可改善低导电基片的曝光效果，1 nA束流下最小线宽8 nm，写场大小500 微米。样品台支持多尺寸基片的曝光和晶圆级尺寸曝光。 |
| Introduction (English)： |
The electron beam lithography system is an essential facility to fabricate nano-scale structures. By exposing with focused electron beams, the system can be used to fabricate integrated photonic devices including gratings and photonic crystals, micro-electro-mechanical systems (MEMS), high-resolution photomasks. The system is suitable for applications from opto-electronics and biological sensing to quantum physics. The 125-kV acceleration voltage can improve the exposure on low-conductivity substrates. The minimum linewidth is 8 nm and the writefield size is 500 micra. The cassette supports various sizes of chips and wafer-scale exposure.
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| 培训要求： |
实验室统一组织培训，上机需通过实验室培训考核。 |
| 开放机时： |
800小时/年。 |
| 收费标准： |
1200元人民币/小时（校内师生），1500元人民币/小时（校外人员），培训费1200元人民币/人。 |
| 操作手册： |
待发布。 |
| 管理员及联系方式： |
杨康江 电话：18800128574 邮箱：2306795013@pku.edu.cn |
